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印制电路板制造工艺
- 2019-09-18-
一、概述  
PCB,即PrintedCircuitBoard的缩写,中文译为印制电路板,它包括刚性、挠性和刚-挠结合的单面、双面和多层印制板。  
PCB为电子产品zui重要的基础部件,用做电子元件的互连与安装基板。不同类别的PCB,其制造工艺也不尽相同,但基本原理与方法却大致一样,如电镀、蚀刻、阻焊等工艺方法都要用到。在所有种类的PCB中,刚性多层PCB应用zui广,其制造工艺方法与流程zui具代表性,也是其他类别PCB制造工艺的基础。了解PCB的制造工艺方法与流程,掌握基本的PCB制造工艺能力,是做好PCB可制造性设计的基础。本篇我们将简单介绍传统刚性多层PCB和高密度互连PCB的制造方法与流程以及基本工艺能力。  
二、刚性多层PCB  
刚性多层PCB是目前绝大部分电子产品使用的PCB,其制造工艺具有一定的代表性,也是HDI板、挠性板、刚-挠结合板的工艺基础。  
工艺流程:  
刚性多层PCB制造流程,可以简单分为内层板制造、叠层/层压、钻孔/电镀/外层线路制作、阻焊/表面处理四个阶段。  
阶段一:内层板制作工艺方法与流程  
阶段二:叠层/层压工艺方法与流程  
阶段三:钻孔/电镀/外层线路制作工艺方法与流程  
阶段四:阻焊/表面处理工艺方法与流程  
三、HDI板随着0.8mm及其以下引线中心距BGA、BTC类元器件的使用,传统的层压印制电路制造工艺已经不能适应微细间距元件的应用需要,从而开发了高密度互连(HDI)电路板制造技术。  
所谓HDI板,一般是指线宽/线距小于等于0.10mm、微导通孔径小于等于0.15mm的PCB。  
在传统的多层板工艺中,所有层一次性堆叠成一块PCB,采用贯通导通孔进行层间连接,而在HDI板工艺中,导体层与绝缘层是逐层积层,导体间是通过微埋/盲孔进行连接的。因而,一般把HDI板工艺称为积层工艺(BUP,Build-upProcess或BUM,Build-upMutiplayer)。根据微埋/盲孔导通的方法来分,还可以进一步细分为电镀孔积层工艺和应用导电膏积层工艺(如ALIVH工艺和B2IT工艺)。  
1.HDI板的结构  
HDI板的典型结构是“N+C+N”,其中“N”表示积层层数,“C”表示芯板。随着互连密度的提高,全积层结构(也称任意层互连)也开始使用。  
2.电镀孔工艺  
在HDI板的工艺中,电镀孔工艺是主流的一种,几乎占HDI板市场的95%以上。它本身也在不断发展中,从早期的传统孔电镀到填孔电镀,HDI板的设计自由度得到很大提高。  
3.ALIVH工艺此工艺为松下公司开发的全积层结构的多层PCB制造工艺,是一种应用导电胶的积层工艺,称为任意层填隙式导通互连技术(AnyLayerInterstitialViaHole,ALIVH),它意味着积层的任意层间互连全由埋/盲导通孔来实现。  
工艺的核心是导电胶填孔。  
ALIVH工艺特点:  
1)使用无纺芳酰胺纤维环氧树脂半固化片为基材;  
2)采用CO2激光形成导通孔,并用导电膏填充导通孔。  
4.B2IT工艺  
此工艺为积层多层板制造工艺,这种工艺称为埋入凸块互连技术(BuriedBumpInterconnectionTechonology,B2IT)。工艺的核心是应用导电膏制成的凸块。
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